Just add water!

Wat is het TWINSCAN-immersiesysteem van ASML?

Met een TWINSCAN-immersiesysteem wordt de wafermeting, inclusief focus en uitlijning, voltooid in de "droge" fase, terwijl het beeldvormingsproces, met behulp van water, wordt voltooid in de "natte" fase.

Deze onderdompelingstechnologie plaatst water tussen de wafer en de projectielens van een systeem om de focus te verbeteren en de lijnbreedte van de schakeling in kleinere dimensies te laten krimpen dan mogelijk is met "droge" lithografiesystemen. ASML is een pionier in deze "natte" technologie en heeft een sterke vraag naar op onderdompeling gebaseerde systemen ervaren.